外延层生长过程中离子注入原子扩散的建模
材料科学
2011-06-14 v1
摘要
在与生长中的外延层移动表面相关联的坐标系中，给出了考虑非平衡点缺陷的非均匀分布以及“杂质原子-本征点缺陷”对在弹性应力场中的漂移，由这些对的形成、迁移和溶解所导致的杂质扩散方程。已获得该方程在低通量离子注入条件下的解析解。
引用
@article{arxiv.1106.2313,
title = {Modeling of ion-implanted atoms diffusion during the epitaxial growth of the layer},
author = {O. I. Velichko and V. A. Burko},
journal= {arXiv preprint arXiv:1106.2313},
year = {2011}
}
备注
3 pages, 2 figures