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CaVO$_3$薄膜中的金属-绝缘体转变:外延应变、维度限域与表面效应的相互作用

强关联电子 2018-02-14 v1 材料科学

摘要

我们使用密度泛函理论加动力学平均场理论(DFT+DMFT)研究调节CaVO3_3薄膜中金属-绝缘体转变(MIT)的多个控制参数。我们聚焦于分离衬底诱导外延应变与薄膜减薄相关效应的影响。我们表明约3-4%的拉伸外延应变足以诱导向顺磁莫特绝缘相的转变。这对应于在SrTiO3_3衬底上可实现的应变水平。随后使用自由站立 slab 模型,我们证明减薄薄膜厚度也能引起CaVO3_3的MIT,但仅当厚度小于4个钙钛矿单元时。我们的计算表明此类超薄薄膜中的MIT主要源于表面诱导的t2gt_{2g}轨道间晶体场分裂,有利于形成轨道极化莫特绝缘体。这种表面诱导的晶体场分裂与拉伸外延应变所致者属同一类型,故两种效应亦可协同。此外,我们的计算证实了薄膜表面关联效应的增强,导致最外层准粒子谱权重的减少,而体相性质在距表面仅几层内即恢复。

关键词

引用

@article{arxiv.1801.03036,
  title  = {Metal-insulator transition in CaVO$_3$ thin films: interplay between epitaxial strain, dimensional confinement, and surface effects},
  author = {Sophie Beck and Gabriele Sclauzero and Uday Chopra and Claude Ederer},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1801.03036},
  year   = {2018}
}

备注

10 pages, 9 figures