原子级薄氮化硼的力学性质及层间相互作用的作用
材料科学
2020-08-05 v1
摘要
原子级薄氮化硼(BN)纳米片是重要的二维纳米材料，具有许多不同于石墨烯的独特性质，但对其力学性质的研究仍极为缺乏。本文报道，高质量单晶单层及少层BN纳米片是最强的电绝缘材料之一。更有趣的是，在压痕作用下，少层BN表现出与少层石墨烯截然不同的力学行为。与石墨烯形成鲜明对比的是，当层数从1增至8时，石墨烯的强度下降超过30%，而BN纳米片的力学强度对厚度增加并不敏感。我们将这一差异归因于这两种材料在压痕下不同的层间相互作用及由此产生的滑移倾向。BN纳米片显著更优的力学完整性使其成为比石墨烯更具吸引力的候选材料，可用于若干应用，例如作为力学增强体。
引用
@article{arxiv.2008.01657,
title = {Mechanical Properties of Atomically Thin Boron Nitride and the Role of Interlayer Interactions},
author = {Aleksey Falin and Qiran Cai and Elton J. G. Santos and Declan Scullion and Dong Qian and Rui Zhang and Zhi Yang and Shaoming Huang and Kenji Watanabe and Takashi Taniguchi and Matthew R. Barnett and Ying Chen and Rodney S. Ruoff and Lu Hua Li},
journal= {arXiv preprint arXiv:2008.01657},
year = {2020}
}