原子级薄氮化硼纳米片的强抗氧化性
材料科学
2014-03-06 v1
摘要
研究二维（2D）材料的抗氧化性对其诸多应用至关重要，因为二维材料由于表面原子占主导地位及结构畸变，可能比其块体对应物具有更高的氧化动力学。本研究通过在空气中加热，考察了 1 至 4 层厚的高质量氮化硼（BN）纳米片的氧化行为。原子力显微镜和拉曼光谱分析表明，单层 BN 纳米片可承受高达 850°C 的温度，且 BN 纳米片的氧掺杂/氧化起始温度仅随纳米片层数的增加而略有升高，并取决于加热条件。在氧化的单层 BN 纳米片上观察到拉长的蚀刻线，表明 BN 纳米片首先沿着化学吸附的氧链被切割，随后氧化蚀刻垂直于这些切割线扩展。BN 纳米片更强的抗氧化性表明，它们比石墨烯更适合高温应用。
引用
@article{arxiv.1403.1002,
title = {Strong Oxidation Resistance of Atomically Thin Boron Nitride Nanosheets},
author = {Lu Hua Li and Jiri Cervenka and Kenji Watanabe and Takashi Taniguchi and Ying Chen},
journal= {arXiv preprint arXiv:1403.1002},
year = {2014}
}