石墨烯的机械清洁
材料科学
2012-02-24 v1 其他凝聚态物理
摘要
纳米加工残留物对石墨烯的污染通常会引入背景掺杂并降低载流子迁移率。对于高电子学质量的样品，因此需要在光刻后进行清洁处理。我们报道了基于接触模式原子力显微镜（AFM）的机械清洁可去除残留物并显著改善电子学性能。一个使用六方氮化硼（hBN）电介质的机械清洁双栅双层石墨烯晶体管在低温下展现出约36,000 cm²/Vs的迁移率。
引用
@article{arxiv.1112.0250,
title = {Mechanical cleaning of graphene},
author = {A. M. Goossens and V. E. Calado and A. Barreiro and K. Watanabe and T. Taniguchi and L. M. K. Vandersypen},
journal= {arXiv preprint arXiv:1112.0250},
year = {2012}
}
备注
4 pages, 4 figures