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III-V 族半导体量子阱中的无质量狄拉克费米子

介观与纳米尺度物理 2019-03-27 v2 材料科学

摘要

我们报道了基于 III-V 族半导体的二维系统中无质量狄拉克费米子的明确证据。利用制作在三层 InAs/GaSb/InAs 量子阱上的栅控霍尔条,我们通过磁输运恢复了朗道能级扇图,并明确展示了样品中的无带隙态。在不同电子浓度下对回旋共振的测量直接表明了布里渊区 Γ\Gamma 点处的线性能带交叉。在类狄拉克解析哈密顿量框架内对实验数据的分析,不仅使我们确定了无质量狄拉克费米子的速度 vF=1.8105v_F=1.8\cdot10^5 m/s,也展示了高能下的显著非线性色散。

关键词

引用

@article{arxiv.1812.02468,
  title  = {Massless Dirac fermions in III-V semiconductor quantum wells},
  author = {S. S. Krishtopenko and W. Desrat and K. E. Spirin and C. Consejo and S. Ruffenach and F. Gonzalez-Posada and B. Jouault and W. Knap and K. V. Maremyanin and V. I. Gavrilenko and G. Boissier and J. Torres and M. Zaknoune and E. Tournié and F. Teppe},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1812.02468},
  year   = {2019}
}

备注

Main text and Supplemental Materials, 14 pages, 9 figures