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石墨烯的无掩模激光加工

应用物理 2018-12-27 v1 介观与纳米尺度物理

作者: Fujio Wakaya , Tadashi Kurihara , Nariaki Yurugi , Satoshi Abo , Masayuki Abe , Mikio Takai

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摘要

通过紫外脉冲激光辐照去除了 SiO $_2$ /Si 衬底上的石墨烯。去除石墨烯的阈值激光功率密度依赖于石墨烯厚度。利用衬底表面热膨胀的动能讨论了该机理。利用这种厚度依赖性，展示了针对石墨烯的厚度(或层数)选择性加工。还展示了在空气中利用激光辐照对石墨烯进行无掩模图形化。

关键词

石墨烯激光加工无掩模图形化厚度选择性紫外脉冲激光

引用

@article{arxiv.1812.09839,
  title  = {Maskless laser processing of graphene},
  author = {Fujio Wakaya and Tadashi Kurihara and Nariaki Yurugi and Satoshi Abo and Masayuki Abe and Mikio Takai},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1812.09839},
  year   = {2018}
}

备注

4 pages, 6 figures, The 40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014), Lausanne, Switzerland, September 22-26, 2014