外延和多晶Fe/Si多层膜的磁性
凝聚态物理
2009-10-28 v1
摘要
通过离子束溅射在玻璃和单晶衬底上生长了具有反铁磁层间耦合的Fe/Si多层膜。高角X射线衍射测量表明，两组薄膜均具有狭窄的Fe峰，这意味着较大的晶粒尺寸和结晶性硅化铁间隔层。低角X射线衍射测量表明，在玻璃上生长的薄膜比在单晶衬底上生长的薄膜具有更粗糙的界面。在玻璃上生长的多层膜比在单晶衬底上生长的多层膜具有更大的剩余磁化强度。在磁滞回线中观察到磁晶各向异性以及X射线衍射中的峰，表明在MgO和Ge上生长的薄膜是外延的。具有更好层状结构的Fe/Si多层膜中较小的剩余磁化强度表明剩磁并非固有属性。
引用
@article{arxiv.cond-mat/9508117,
title = {Magnetic Properties of Epitaxial and Polycrystalline Fe/Si Multilayers},
author = {A. Chaiken and R. P. Michel and C. -T. Wang},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/9508117},
year = {2009}
}
备注
9 pages, RevTex, 4 figures available by fax. Send email to [email protected] for more info. Submitted to '95 MMM proceedings