闭壳层局域电子间有效库仑相互作用的线性响应计算：Cu、Zn 和 ZnO

提出了一种计算闭壳层局域电子间有效库仑相互作用 ($U$) 的线性响应方法，并将其应用于基于平面波基组密度泛函理论计算的 $3d$ 闭壳层系统（Cu、Zn 和 ZnO）。由于闭壳层局域态远低于费米能级，因此施加投影到局域态上的大局部微扰势 ($\alpha$) 以诱导有目的的密度响应 ($\Delta n$)。从 $\alpha$ 中移除了密度响应 onset 的微扰势代价，即 $\Delta n$ 开始被诱导的阈值。有效库仑相互作用的主要屏蔽通道是从受微扰局域态去占据的巡游电子。基于局部密度近似加 $U$ (LDA+$U$) 计算了 Cu、Zn 和 ZnO 的 $3d$ 电子结合能，其中 $U$ 值由线性响应计算得出，结果发现与实验吻合良好。