非均匀应变莫尔条纹中的层赝自旋动力学与真正非阿贝尔Berry相位
介观与纳米尺度物理
2021-01-05 v1
摘要
长波长莫尔条纹的周期性在范德瓦耳斯层状结构制备中常因非均匀应变而遭到破坏。我们提出一个框架来描述过渡金属硫族化物同质双层中此类畸变莫尔条纹内的有质量狄拉克费米子，并考虑层赝自旋的动力学。在解耦双层中，我们展示了面内层赝自旋进动的两个成因：层反对称应变与谷磁矩的耦合；以及R型双层在反对称应变下和H型双层在对称应变下SU(2)规范势中的Aharonov-Bohm效应。在莫尔条纹中存在层间耦合时，其与应变的相互作用表现为非阿贝尔规范场。我们展示了该场中真正的非阿贝尔Aharonov-Bohm效应，其中不同回路的演化算子不可交换。这为探索非阿贝尔规范场对电子的影响提供了一个令人兴奋的平台，且场可通过应变和层间偏压显著调控。
引用
@article{arxiv.2012.07041,
title = {Layer pseudospin dynamics and genuine non-Abelian Berry phase in inhomogeneously strained moir\'e pattern},
author = {Dawei Zhai and Wang Yao},
journal= {arXiv preprint arXiv:2012.07041},
year = {2021}
}
备注
To appear in Phys. Rev. Lett