TiS3 纳米片中的大双折射与线二色性
材料科学
2020-09-25 v2 介观与纳米尺度物理
摘要
TiS3 纳米片因其直接窄带隙和强光-物质相互作用，已被证明是超薄光电子器件的有前途的候选材料。此外，TiS3 显著的面内各向异性对于制造偏振敏感光电子器件颇具吸引力。在此，我们研究了 SiO2/Si 衬底上不同厚度 TiS3 纳米片的光学衬度，由此获得可见光谱中的复折射率。我们发现 TiS3 表现出非常大的双折射（大于 TiO2 或方解石等众所周知的强双折射材料）以及线二色性。这些发现与 ab initio 计算在定性上一致，该计算表明该材料的双折射和线二色性源于激子。
引用
@article{arxiv.1810.00743,
title = {Large birefringence and linear dichroism in TiS3 nanosheets},
author = {Nikos Papadopoulos and Riccardo Frisenda and Robert Biele and Eduardo Flores and Jose R. Ares and Carlos Sanchez and Herre S. J. van der Zant and Isabel J. Ferrer and Roberto D'Agosta and Andres Castellanos-Gomez},
journal= {arXiv preprint arXiv:1810.00743},
year = {2020}
}