抑制屏蔽的沉积中的动力学粗糙化
凝聚态物理
2010-10-12 v1
摘要
我们通过广泛的蒙特卡洛模拟，研究了在禁止悬突阻塞大间隙以抑制屏蔽的线性晶格上k聚体不可逆表面沉积模型中，生长界面宽度的时间依赖性和尺寸依赖性。尽管早先发现此类模型的沉积密度倾向于远离衬底而增加，但我们的数值结果明确地将它们归入标准KPZ普适类。
引用
@article{arxiv.cond-mat/9401048,
title = {Kinetic Roughening in Deposition with Suppressed Screening},
author = {Peter Nielaba and Vladimir Privman},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/9401048},
year = {2010}
}
备注
nine pages, plain TeX (4 figures not included)