提升无色差塔尔博特光刻的分辨率与吞吐量
应用物理
2023-05-03 v1
摘要
在大面积上制备周期性结构的高分辨图形在科技领域有多种应用。基于衍射光栅中早已观察到的塔尔博特效应的一类方法——无色差塔尔博特光刻（ATL）——便是其中之一。该方法相较其他技术具有诸多优势，如高分辨率、大焦深、高吞吐量等。尽管该技术过去已被研究，其极限尚未被探索。提升该方法的效率与分辨率至关重要，并可能赋能诸多科技应用。本工作中，我们将该技术与极紫外（EUV）波长下空间相干且准单色光相结合，并探索新的掩模设计方案，以提升其吞吐量与分辨率。我们报告了多种掩模设计的仿真以探究其效率。必须采用先进且优化的纳米加工技术，以实现高质量且高效的 ATL 掩模。利用瑞士光源（SLS）的相干 EUV 辐射进行了曝光，将该技术用于致密孔或点图形化的分辨率极限推进至 40 nm 节距。此外，通过大量仿真，探索了以环代替孔的替代掩模设计，用于孔/点阵列的高效图形化。我们表明这些环具有与孔阵列相似的空间像，同时可实现更高效率，从而提升 ATL 曝光的吞吐量。带环的掩模设计表明其更不易受纳米加工过程中图形坍塌相关问题的困扰，因此有希望实现更高分辨率。
引用
@article{arxiv.1810.05406,
title = {Improving the Resolution and Throughput of Achromatic Talbot Lithography},
author = {Dimitrios Kazazis and Li-Ting Tseng and Yasin Ekinci},
journal= {arXiv preprint arXiv:1810.05406},
year = {2023}
}