电子束光刻制备反射光栅的极限光谱分辨率
天体物理仪器与方法
2020-12-09 v1
摘要
光栅实现了从X射线到光学的色散光谱学，并在拟议的旗舰任务与SmallSats中同样占据重要地位。这些未来任务严苛的性能要求有必要评估当前最先进的光栅制造技术是否会限制光谱仪性能。在这项工作中，我们使用电子束光刻（EBL）制造了一个厚1.5 mm、周期1000 nm的光栅，EBL是一种用于为未来天文观测台图案化光栅的有前景的光刻技术。我们通过干涉测量+/-1级产生的衍射波前来评估该光栅的极限光谱分辨率。我们的测量表明该光栅性能至少为 R ~ 14,600，且我们的评估受限于干涉测量的误差。量化了EBL拼接误差对光栅性能的影响，并提出了测量定制弯曲光栅周期误差的途径。
引用
@article{arxiv.2009.06733,
title = {Limiting Spectral Resolution of a Reflection Grating Made via Electron-Beam Lithography},
author = {Casey T. DeRoo and Jared Termini and Fabien Grise and Randall L. McEntaffer and Benjamin D. Donovan and Chad Eichfeld},
journal= {arXiv preprint arXiv:2009.06733},
year = {2020}
}