高重复率投影型多光子光刻用于大面积亚微米 3D 打印
光学
2026-01-28 v2
摘要
高分辨率光刻技术常受限于低体积吞吐量，因为目前不存在能够制造 3D 介质表面的通用且可扩展的制造工艺。本文演示了一种基于时空光束形成的高速全息 3D 打印平台，显著提升了重复率，同时保持高分辨率。该系统集成了 femtosecond 激光源、光谱脉冲压缩器和光束形成器，以投射均匀、轴向局限的光场，直接作用于先进的光刻胶。我们研究了快速聚合的工艺窗口，优化光引发剂的选择，以消除高重复率下的热串扰。通过该装置，我们实现了每秒超过百万个体素的产能，分辨率低于 400 纳米。通过制造大面积类木pile 结构晶体和均匀的微柱阵列，验证了该系统的可靠性，确立了面向微光学组件可扩展制造的工作流程。
引用
@article{arxiv.2601.17816,
title = {High-Repetition-Rate Projection Multiphoton Lithography for Large-Area Sub-Micron 3D Printing},
author = {Savvas Papamakarios and Maria Manousidaki and Michalis Stavrou and David Gray and Maria Farsari},
journal= {arXiv preprint arXiv:2601.17816},
year = {2026}
}