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用于毫米级集成光学的各向异性蚀刻硅{111}晶面的表面质量改进

光学 2013-12-02 v1

作者: J. P. Cotter , I. Zeimpekis , M Kraft , E A Hinds

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摘要

我们研究了通过在氢氧化钾中蚀刻 CZ 和 FZ 硅晶圆以暴露 $\{111\}$ 晶面所生产的毫米级光学反射镜的表面质量。我们发现，在高达 $500\, {mm}^{-1}$ 的空间频率下，FZ 表面的噪声功率低四倍。我们得出结论，使用 FZ 晶圆制造的反射镜具有更高的光学质量。

关键词

表面质量各向异性蚀刻硅{111}晶面集成光学 CZ 硅 FZ 硅光学反射镜

引用

@article{arxiv.1307.3980,
  title  = {Improved surface quality of anisotropically etched silicon {111} planes for mm-scale integrated optics},
  author = {J. P. Cotter and I. Zeimpekis and M Kraft and E A Hinds},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1307.3980},
  year   = {2013}
}