用于远紫外的高效率中阶梯光栅
天体物理仪器与方法
2022-08-10 v1
摘要
现代光栅制造技术存在限制其峰值效率的固有缺陷。硅的各向异性刻蚀有助于制造具有尖锐且原子级光滑刻面的定制光栅，直接解决这些问题。我们描述了制造和表征为远紫外（FUV；90 - 180 nm）波段优化的刻蚀硅中阶梯光栅的工作。我们制造了两个与在 CHESS 探空火箭上飞行的机械刻划光栅具有相似参数的中阶梯光栅。我们使用这些光栅展示了峰值级次效率提高 42%，级间散射降低 83%。我们还展示了关于剩余效率所在位置的分析。这些已演示的 FUV 中阶梯光栅改进有益于未来 UV 天文台的天体源灵敏度和高分辨率性能。
引用
@article{arxiv.2207.07659,
title = {High Efficiency Echelle Gratings for the Far Ultraviolet},
author = {Nicholas Kruczek and Drew M. Miles and Brian Fleming and Randall McEntaffer and Kevin France and Fabien Grisé and Stephan McCandliss},
journal= {arXiv preprint arXiv:2207.07659},
year = {2022}
}
备注
21 pages, 13 figures, Accepted into Applied Optics