由FORTIS全息光栅解生成电子束光刻写入参数
天体物理仪器与方法
2021-08-31 v1
摘要
远紫外离罗兰圆成像与光谱望远镜（FORTIS）已成功成熟了用于远紫外多目标光谱的技术，包括：新一代微快门阵列的成功实现；大面积微通道板探测器；以及具有弯曲、变间距沟槽和层状（矩形）轮廓的非球面“双级”全息刻划衍射光栅。这些光学元件被用于构建一种高效且极简的格雷果里（Gregorian）构型“双反射”光谱望远镜。然而，双级设计固有的对莱曼α（Ly）散射的敏感性被发现存在难以解决的问题，促使我们转向“离轴”设计。OAxFORTIS将通过封闭光路来减轻其对Ly的敏感性，使探测器仅接收来自光栅的光。新设计将集光面积减少了2倍，但通过使用新的高效反射涂层和闪耀衍射光栅，可恢复并改善总体有效面积。后一项关键技术得益于近期利用电子束光刻和化学蚀刻在晶体硅中制作沟槽以制造具有极高效率和优异平滑度的闪耀光栅的进展。在此我们讨论OAxFORTIS光栅解的推导，以及将FORTIS全息光栅记录参数（遵循Noda等人1974a,b的形式体系）转换为驱动电子束光刻写头所需的三维弯曲变间距刻线的办法。我们还将讨论选择具有适当晶面取向的硅晶片的过程，并给出我们制备工作的进展更新。
引用
@article{arxiv.2108.09297,
title = {Generating Electron Beam Lithography Write Parameters from the FORTIS Holographic Grating Solution},
author = {Mackenzie Carlson and Stephan McCandliss and Randall McEntaffer and Fabien Grisé and Nicholas Kruczek and Brian Fleming},
journal= {arXiv preprint arXiv:2108.09297},
year = {2021}
}
备注
10 pages, 6 figures, to appear in Proc. of SPIE Vol. 11821, UV, X-Ray, and Gamma-Ray Space Instrumentation for Astronomy XXII