用于量子光子应用的GaAs薄膜上的高效浅刻蚀光栅
应用物理
2019-01-30 v1 光学
量子物理
摘要
我们设计并制备了砷化镓纳米薄膜上的浅刻蚀光栅,用于量子光子集成电路中的高效芯片到光纤耦合。实验结果表明,该光栅在930 nm设计波长下提供>60%的光纤耦合效率、<1%的极大抑制背反射以及>43 nm的3-dB带宽。利用所设计光栅实现了从嵌入式砷化铟量子点到光纤的高效单光子收集,与常用圆形光栅相比显示出平均六倍的光子计数增加,为片上量子信息处理提供了高效接口。
引用
@article{arxiv.1809.03189,
title = {High-Efficiency Shallow-Etched Grating on GaAs Membranes for Quantum Photonic Applications},
author = {Xiaoyan Zhou and Irina Kulkova and Toke Lund-Hansen and Sofie Lindskov Hansen and Peter Lodahl and Leonardo Midolo},
journal= {arXiv preprint arXiv:1809.03189},
year = {2019}
}
备注
5 pages, 5 figures