原子力显微镜研究$V_2 O_5$薄膜的高度涨落与间歇性
统计力学
2015-06-24 v1
摘要
研究了通过原子力显微镜观察到的表面粗糙度的空间标度律和间歇性。通过两种不同方法检查了高度涨落的间歇性：首先，通过测量高度差涨落的q阶矩的标度指数，即；其次，通过定义生成函数和广义多重分形维数。这些方法预测高度涨落中不存在间歇性。观察到的粗糙度和动力学指数可以通过基于受迫Kuramoto-Sivashinsky方程的数值模拟来解释。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0306035,
title = {Height Fluctuations and Intermittency of $V_2 O_5$ Films by Atomic Force Microscopy},
author = {A. Iraji zad and G. Kavei and M. Reza Rahimi Tabar and S. M. Vaez Allaei},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0306035},
year = {2015}
}
备注
6 pages (two columns), 11 eps. figures, latex