一类沉积模型中的生长涨落
概率论
2007-09-12 v4
摘要
我们计算了一大类沉积模型在平衡态下的生长涨落。这些模型也作为若干最近邻粒子跳跃过程的通用框架，例如简单排斥过程或零程过程，其中我们的结果对应于粒子的电流涨落。我们使用鞅技巧和耦合方法来证明，经过时间重新标度后，由确定性运动观测者所看到的生长方差具有形式 |V-C|*D，其中 V 和 C 分别为观测者和第二类粒子的速度，D 为与该模型平衡分布相关的常数。我们的主要结果是对 Ferrari 和 Fontes 关于简单排斥过程结果的推广。大数定律和中心极限定理也被证明。我们需要第二类粒子运动的一些性质，这些性质对于简单排斥过程已知，对于零程过程部分已知，而本文中对于一类沉积模型以及一类零程过程给出了证明。
引用
@article{arxiv.math/0112143,
title = {Growth fluctuations in a class of deposition models},
author = {Marton Balazs},
journal= {arXiv preprint arXiv:math/0112143},
year = {2007}
}
备注
A minor mistake in lemma 5.1 is now corrected