用于模拟暗场 X 射线显微术衬度的几何光学形式体系
材料科学
2022-03-10 v1 仪器与探测器
摘要
暗场 X 射线显微术是一种新的全场成像技术，可非破坏性地三维绘制深埋晶体元件内部的结构与局部应变。在衍射束中放置物镜可生成局部体积的指纹放大投影图像。我们提供了一种基于几何光学的衍射成像通用形式体系，适用于任何晶体学空间群。这使得基于微观力学模型模拟衍射图像成为可能。我们用该形式体系给出示例模拟，展示其如何用于设计新实验或解释已有实验。特别地，我们展示了如何通过对实验设计的修改来定制倒空间分辨率函数，以映射变形梯度张量的特定分量。该形式体系支持多尺度实验，因为它使 DFXM 能与 3DXRD 接口。该形式体系通过与直位错周围应变场的实验图像比较得到了验证。
引用
@article{arxiv.2007.09475,
title = {Geometrical Optics Formalism to Model Contrast in Dark-Field X-ray Microscopy},
author = {H. F. Poulsen and L. E. Dresselhaus-Marais and M. A. Carlsen and C. Detlefs and G. Winther},
journal= {arXiv preprint arXiv:2007.09475},
year = {2022}
}