石墨烯与光吸收铜基薄膜的电化学集成
材料科学
2012-03-27 v1
摘要
我们提出了一种将石墨烯与光电子学应用中使用的光敏铜基合金集成的电化学方法。研究发现，利用化学气相沉积（CVD）生长并转移至玻璃上的石墨烯是一种坚固的基底，可在其上沉积 1-2 um 厚度的光电导 Cu_{x}S 薄膜。本文展示了生长参数对 Cu_{x}S 薄膜形貌和光电导率的影响。以石墨烯作为一个接触端，银环氧树脂作为另一个接触端，进行了电流-电压表征和光电导率衰减实验。
引用
@article{arxiv.1203.5655,
title = {Electrochemical integration of graphene with light absorbing copper-based thin films},
author = {Medini Padmanabhan and Kallol Roy and Gopalakrishnan Ramalingam and Srinivasan Raghavan and Arindam Ghosh},
journal= {arXiv preprint arXiv:1203.5655},
year = {2012}
}