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基于第一性原理的硅中氢在有限温度下的动力学

材料科学 2022-04-29 v1

摘要

硅中的氢点缺陷仍存在未解问题,其揭示对硅技术的未来进展至关重要。开放问题之一是从高于 T700T\sim700\,^{\circ}C 淬火至室温的 Si 中原子氢凝聚成分子的机制。基于第一性原理计算,我们在简谐近似下研究了有限温度下氢单体与二聚体的热力学。形成自由能表明,高温下 H^{-} 的布居与 H+^{+} 相比不可忽略。结果使我们提出,分子的形成发生在冷却过程中、温度窗口 T700-500T\sim700\textrm{-}500\,K 之内,高于此窗口分子与 Si-Si 键碰撞并解离,低于此窗口 H^{-} 的比例变得可忽略。H^{-} 的形成,尤其是快速扩散中性物种的形成,也能解释原子氢在升高温度下的表观\emph{加速}扩散性,相较于由低温测量外推所得数值。我们最后表明,假设分子在包括过渡态的整条最小能量路径上近乎自由转子,可更好地描述观测到的分子扩散性。

关键词

引用

@article{arxiv.2204.13334,
  title  = {Dynamics of hydrogen in silicon at finite temperatures from first-principles},
  author = {Diana Gomes and Vladimir P. Markevich and Anthony R. Peaker and José Coutinho},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2204.13334},
  year   = {2022}
}