Au 纳米岛在 Si (100) 表面结构演化的动态与静态透射电子显微镜研究
介观与纳米尺度物理
2017-12-06 v1 材料科学
摘要
本文报道了在不同真空条件下退火时，沉积在 Si (100) 上的金纳米结构形貌变化的透射电子显微镜 (TEM) 研究。厚度约为 2.0 nm 的金薄膜是在高真空条件下（Au 与 Si 界面处存在原生氧化物）通过热蒸发沉积的。原位高温（从室温 (RT) 到 850\degreeC）实时 TEM 测量显示了金纳米颗粒演化为矩形/方形金硅化物结构的过程。这归因于原生氧化物层的选择性热分解。在 850\degreeC 低真空 (10-2 mbar) 下的非原位退火未显示纳米金硅化物结构的生长。在低真空退火条件下，氧化物的生成可能主导了氧化物层的分解，导致在 Au 和 Si 之间形成阻挡层。
引用
@article{arxiv.1204.4618,
title = {Dynamic and Static Transmission Electron Microscopy Studies on Structural Evaluation of Au nano islands on Si (100) Surface},
author = {Ashutosh Rath and R. R. Juluri and P. V. Satyam},
journal= {arXiv preprint arXiv:1204.4618},
year = {2017}
}
备注
15 pages, 4 figures