均匀洁净二维过渡金属硫族化合物的溶解-沉淀生长
材料科学
2020-07-15 v1
摘要
二维(2D)过渡金属硫族化合物(TMDCs)已引起广泛关注,并在许多应用中展现出前景。然而,由于当前化学气相沉积(CVD)生长过程中难以控制反应物供给反应的方式,获得表面洁净的均匀TMDCs具有挑战性。在此,我们报道了一种称为溶解-沉淀(DP)生长的新生长方法,其中金属源被密封在玻璃基底内部以控制其向反应的供给。值得注意的是,金属源在玻璃内部向其表面的扩散在玻璃表面提供了均匀的金属源,并将TMDC生长限制为仅表面反应,同时消除了不必要的气相反应。这一特性产生了在厘米级基底上具有洁净表面的高度均匀单层TMDCs。DP生长适用于多种TMDCs及其合金,通过对金属源的精细控制为洁净TMDCs的可控生长提供了坚实基础。
引用
@article{arxiv.2007.06917,
title = {Dissolution-Precipitation Growth of Uniform and Clean Two Dimensional Transition Metal Dichalcogenides},
author = {Zhengyang Cai and Yongjue Lai and Shilong Zhao and Rongjie Zhang and Junyang Tan and Simin Feng and Jingyun Zou and Lei Tang and Junhao Lin and Bilu Liu and Hui-Ming Cheng},
journal= {arXiv preprint arXiv:2007.06917},
year = {2020}
}
备注
22 pages, 4 figures