利用微加工屈曲膜测定薄膜中的压应力
应用物理
2023-05-26 v1 软凝聚态物质
摘要
在这项工作中，将光学轮廓术和有限元模拟应用于屈曲的微加工膜，用于分析离子束溅射和薄膜的应力。在硅衬底上生长不同厚度的层，然后采用标准微系统技术制造多种几何形状的膜；由于薄膜压应力水平较高，获得了屈曲膜。为进行比较，还制备了热生长二氧化硅膜。通过将膜的测量挠度与模拟挠度进行比较，确定了残余应力值。发现薄膜的平均应力状态为 MPa。薄膜处于更高的压应力状态，其平均值为 MPa。在1130 C下生长的热薄层中的平均应力为 MPa，与文献结果吻合良好。
引用
@article{arxiv.2305.15794,
title = {Determination of compressive stress in thin films using micro-machined buckled membranes},
author = {C. Malhaire and M. Granata and D. Hofman and A. Amato and V. Martinez and G. Cagnoli and A. Lemaitre and N. Shcheblanov},
journal= {arXiv preprint arXiv:2305.15794},
year = {2023}
}