SnSe单晶中缺陷控制的空穴掺杂与多谷输运
材料科学
2018-01-29 v1
摘要
SnSe 是一种极具前景的热电材料,具有创纪录的品质因数,即 ZT。作为一种半导体,最优的电学掺杂量是最大化 SnSe 中 ZT 的关键挑战。然而,迄今为止,对 SnSe 电子结构的全面理解,尤其是最关键的本征空穴掺杂机制,仍然缺失。在此,我们报道了通过角分辨光电子能谱和量子输运研究的 SnSe 的高度各向异性电子结构,其中揭示了具有准线性能量色散的独特“布丁模具”状价带。我们证明 SnSe 中的电掺杂受局域相分离诱导形成的 SnSe 微区所外在控制。利用不同的生长方法和条件,我们实现了 SnSe 中空穴掺杂的广泛调控,从本征半导体行为到室温下载流子密度为 cm 的典型金属。由此产生的 -SnSe 中的多谷输运表现为沿扶手椅轴的非饱和弱局域化,这是由于褶皱晶格的面内铁电偶极场增强了强谷间散射所致。引人注目的是,磁电阻的量子振荡揭示了 -SnSe 中具有异常层间耦合强度的三维电子结构,这与独特的点位错缺陷对 SnSe 各层的交织有关。我们的结果表明,缺陷工程可能为改善 SnSe 族的热电性能提供多种途径。
引用
@article{arxiv.1706.10054,
title = {Defects controlled hole doping and multi-valley transport in SnSe single crystals},
author = {Zhen Wang and Congcong Fan and Zhixuan Shen and Chenqiang Hua and Yifeng Hu and Feng Sheng and Yunhao Lu and Hanyan Fang and Zhizhan Qiu and Jiong Lu and Zhu-An Xu and D. W. Shen and Yi Zheng},
journal= {arXiv preprint arXiv:1706.10054},
year = {2018}
}
备注
21 pages, 4 figures