利用Synopsys工具创建与修复光刻热点
其他计算机科学
2018-08-21 v1
摘要
在先进工艺节点下，模式匹配技术已被用于检测可能影响制造集成电路良率的光刻热点。尽管商业化的模式匹配与设计内热点修复工具已经开发出来，工程师仍需要验证布线设计中特定的热点模式确实能被软件工具检测甚至修复。因此，有必要创建测试用例，借助APR(自动布局布线)工具在布线版图中生成目标热点模式。本文提出一种利用Synopsys工具在布线空间中创建热点模式的方法学，并给出了在物理设计阶段修复热点的方法。通过使用所提出的热点创建方法学，我们能够生成包含目标热点模式的布线设计。从而，热点检测规则、热点修复指导规则以及相关软件工具功能的有效性得以验证。
引用
@article{arxiv.1808.05998,
title = {Creation and Fixing of Lithography Hotspots with Synopsys Tools},
author = {I-Lun Tseng and Valerio Perez and Yongfu Li and Zhao Chuan Lee and Vikas Tripathi and Jonathan Yoong Seang Ong},
journal= {arXiv preprint arXiv:1808.05998},
year = {2018}
}