EPIC：基于统一元分类公式的 IC 制造热点高效预测
硬件体系结构
2014-02-13 v1
摘要
本文提出了 EPIC，一种用于深亚波长光刻中 IC 制造热点的高效且有效的预测器。EPIC 提出了一种统一框架，利用数学规划/优化将不同的热点检测方法（如机器学习和模式匹配）结合起来。EPIC 算法已在先进制造条件下的多个行业基准测试中进行了测试。迄今为止，它展示了在选择性结合各种热点检测方法理想特征方面的最佳能力（准确率提高 3.5-8.2%），以及显著抑制检测噪声（例如误报减少 80%）。这些特性使 EPIC 非常适合进行高性能物理验证并指导高效的可制造性友好型物理设计。
引用
@article{arxiv.1402.2904,
title = {EPIC: Efficient prediction of IC manufacturing hotspots with a unified meta-classification formulation},
author = {Duo Ding and Bei Yu and Joydeep Ghosh and David Z. Pan},
journal= {arXiv preprint arXiv:1402.2904},
year = {2014}
}