一种用于检查标准单元光刻友好性的自动化系统
其他计算机科学
2018-10-04 v1
摘要
在先进工艺节点下，即使集成电路设计的物理版图通过了设计规则检查（DRC），其中仍可能存在光刻弱点。物理版图中的光刻弱点会导致可制造性问题，进而造成良率损失。在我们的实验中，我们发现特定标准单元在其单元实例被放置和布线后倾向于产生光刻弱点，尽管这些单元在执行布局和布线前不含任何光刻弱点。此外，我们的实验表明相邻接的标准单元实例会诱发光刻弱点。因此，在本文中，我们提出了一种新颖软件系统中用于针对上述光刻问题检查标准单元的方法。具体而言，该软件系统能够检测并排序易于产生光刻弱点的问题标准单元，以及报告不应被邻接的标准单元。本文提出的方法使我们能够在数字集成电路设计的物理综合阶段减少或甚至防止不良光刻弱点的产生。
引用
@article{arxiv.1810.01446,
title = {An Automated System for Checking Lithography Friendliness of Standard Cells},
author = {I-Lun Tseng and Yongfu Li and Valerio Perez and Vikas Tripathi and Zhao Chuan Lee and Jonathan Yoong Seang Ong},
journal= {arXiv preprint arXiv:1810.01446},
year = {2018}
}