在单步电子束光刻中接触单个Fe(110)点
材料科学
2009-06-24 v1
摘要
我们报道了一种完全基于电子束光刻技术的新方法，用于在四探针方案中电接触通过自组装获得的单个纳米结构。在我们的流程中，感兴趣的纳米结构在同一制造步骤中被定位并接触。该技术旨在研究在Fe(110)点等细长结构中观察到的非对称布洛赫畴壁内部组分的场致翻转。我们重点关注利用外磁场控制终止于两个界面的畴壁的Néel帽内的磁化取向。讨论了初步的磁输运测量结果，证明单个Fe(110)点已被成功接触。
引用
@article{arxiv.0902.3914,
title = {Contacting individual Fe(110) dots in a single electron-beam lithography step},
author = {Fabien Cheynis and Helge Haas and Thierry Fournier and Laurent Ranno and Wolfgang Wernsdorfer and Olivier Fruchart and Jean-Christophe Toussaint},
journal= {arXiv preprint arXiv:0902.3914},
year = {2009}
}
备注
5 pages