嵌入软磁基体中条纹结构的 Lorentz TEM 成像
介观与纳米尺度物理
2015-10-07 v1
摘要
通过高分辨率 Lorentz 透射电子显微镜成像，研究了被 NiFe 膜包围的软磁 NiFe/NiFeGa 混合条纹结构中的 N\'eel 畴壁。在磁化反转过程中，通过形成高角度畴壁，观察到 1000 nm 宽的相邻未辐照-辐照条纹中磁化的反平行取向。当条纹结构尺寸从 1000 nm 缩小到 200 nm 时，观察到在外部磁场反转下从离散畴图样到有效磁介质的转变。这种转变与相邻条纹之间承载高角度畴壁能力的消失有关。该研究还证明了 Lorentz 显微镜在远低于微米尺度上对周期性条纹结构成像的潜力。
引用
@article{arxiv.1507.07313,
title = {Lorentz TEM imaging of stripe structures embedded in a soft magnetic matrix},
author = {M. A. Basith and S. McVitie and T. Strache and M. Fritzsche and A. Muecklich and J. Fassbender and J. McCordy},
journal= {arXiv preprint arXiv:1507.07313},
year = {2015}
}
备注
7 pages, 6 figures