聚二甲基硅氧烷熔体薄膜中的构型重排
软凝聚态物质
2007-05-23 v1
摘要
同步辐射 X 射线反射 (XRR) 确认了聚二甲基硅氧烷 (PDMS) 熔体在硅表面近处形成准 immobilized 层。该层 (40-60 Å) 的密度低于 bulk 值，其厚度随 PDMS 分子量略有变化。对于分子量处于联结极限以下的 PDMS 熔体，该层的形成非常快速，但对于分子量接近或超过其联结值的 PDMS 熔体，则需耗时 5-10 小时。
关键词
引用
@article{arxiv.cond-mat/0510713,
title = {Conformational rearrangements in thin films of polydimethylsiloxane melt},
author = {Guennadi Evmenenko and Haiding Mo and Sumit Kewalramani and Pulak Dutta},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0510713},
year = {2007}
}
备注
19 pages 3 figures