Co-GISAXS 作为一种研究表面生长动力学的新技术
材料科学
2016-01-20 v1
摘要
薄膜生长过程中表面动力学的详细定量测量是一项重大实验挑战。本文中，相干硬 X 射线的 X 射线光子关联谱以掠入射小角 X 射线散射（即 Co-GISAXS）几何构型被用作一种新工具，以研究 a-Si 和 a-WSi 薄膜溅射沉积过程中的纳米尺度表面动力学。对于两种薄膜，表面生长过程中的动力学粗糙化在后期达到动态稳态，其中强度自相关函数 (q,t) 变为平稳的。(q,t) 函数在所有研究的波数下均表现出压缩指数行为。整体动力学是复杂的，但结构因子和关联时间中对表面最敏感的部分表现出与动力学标度一致的幂律行为。
引用
@article{arxiv.1508.00500,
title = {Co-GISAXS as a New Technique to Investigate Surface Growth Dynamics},
author = {Meliha G. Rainville and Christa Hoskin and Jeffrey G. Ulbrandt and Suresh Narayanan and Alec R. Sandy and Hua Zhou and Randall L. Headrick and Karl F. Ludwig},
journal= {arXiv preprint arXiv:1508.00500},
year = {2016}
}
备注
32 pages, 12 figures