腔嵌入kagome系统中的陈绝缘体和拓扑平带
介观与纳米尺度物理
2026-04-03 v3 光学
量子物理
摘要
我们研究了与圆偏振腔模耦合的kagome系统的拓扑能带结构,使用了基于muffin-tin势和量子光-物质相互作用的模型。我们表明,由于光-物质相互作用打破了时间反演对称性,陈绝缘体相在腔嵌入kagome系统中涌现。我们还发现,近简并带可以具有非零陈数的拓扑非平庸性。通过改变光-物质相互作用,我们还揭示了在超强耦合区域不同陈绝缘体相之间发生拓扑相变。这些相变改变了陈数的符号,切换了边缘电流的方向。通过构建低能有效紧束缚模型,我们证明了腔嵌入kagome陈绝缘体中拓扑边缘模式的存在。
引用
@article{arxiv.2510.09150,
title = {Chern insulators and topological flat bands in cavity-embedded kagome systems},
author = {Hikaru Goto and Ryo Okugawa and Takami Tohyama},
journal= {arXiv preprint arXiv:2510.09150},
year = {2026}
}
备注
10 pages, 7 figures