中文

腔嵌入kagome系统中的陈绝缘体和拓扑平带

介观与纳米尺度物理 2026-04-03 v3 光学 量子物理

摘要

我们研究了与圆偏振腔模耦合的kagome系统的拓扑能带结构,使用了基于muffin-tin势和量子光-物质相互作用的模型。我们表明,由于光-物质相互作用打破了时间反演对称性,陈绝缘体相在腔嵌入kagome系统中涌现。我们还发现,近简并带可以具有非零陈数的拓扑非平庸性。通过改变光-物质相互作用,我们还揭示了在超强耦合区域不同陈绝缘体相之间发生拓扑相变。这些相变改变了陈数的符号,切换了边缘电流的方向。通过构建低能有效紧束缚模型,我们证明了腔嵌入kagome陈绝缘体中拓扑边缘模式的存在。

关键词

引用

@article{arxiv.2510.09150,
  title  = {Chern insulators and topological flat bands in cavity-embedded kagome systems},
  author = {Hikaru Goto and Ryo Okugawa and Takami Tohyama},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2510.09150},
  year   = {2026}
}

备注

10 pages, 7 figures