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超越低折射率材料非线性光学响应的微扰描述

光学 2017-08-15 v2

摘要

我们表明,在线性折射率取值较小的情况下,非线性光学中的标准近似会被破坏。因此,传统的强度依赖折射率方程 n(I)=n0+n2In(I) = n_0 + n_2 I 在 epsilon-near-zero 和低折射率介质中不再适用,即使仅存在三阶效应也是如此。以氧化铟锡这一特例而言,我们发现对折射有贡献的 χ(3)\chi^{(3)}χ(5)\chi^{(5)}χ(7)\chi^{(7)} 项盖过了线性项;因此,在这些材料中非线性响应不再能被解释为微扰。尽管该响应是非微扰的,我们并未发现材料极化的幂级数展开发散的证据。

关键词

引用

@article{arxiv.1702.04338,
  title  = {Beyond the perturbative description of the nonlinear optical response of low-index materials},
  author = {Orad Reshef and Enno Giese and M. Zahirul Alam and Israel De Leon and Jeremy Upham and Robert W. Boyd},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1702.04338},
  year   = {2017}
}

备注

4 pages, 3 figures