金属难熔氮化钛薄膜中的有效三阶非线性
光学
2015-07-27 v1
摘要
纳米光子器件提供了将光集中到极小体积的前所未有的能力，这可以极大地增强非线性效应。然而，传统的等离激元材料损伤阈值低，且与标准半导体工艺不兼容。在此，我们利用 Z 扫描方法在 1550 nm 和 780 nm 波长下研究了新型难熔等离激元材料氮化钛的非线性光学性质。我们将提取的 TiN 非线性参数与以往关于贵金属的研究进行了比较，并注意到其非线性光学响应同样很大。然而，已有研究表明，TiN 薄膜的损伤阈值比相似厚度的金薄膜高出多达一个数量级，同时还具有坚固、成本效益高、生物兼容及 CMOS 兼容等优点。综合这些特性，使 TiN 成为金属基非线性光学中一种很有前景的材料。
引用
@article{arxiv.1507.06674,
title = {Effective Third-Order Nonlinearities in Metallic Refractory Titanium Nitride Thin Films},
author = {Nathaniel Kinsey and Akbar Ali Sayed and Devon Courtwright and Clayton DeVault and Carl E. Bonner and Vladimir I. Gavrilenko and Vladimir M. Shalaev and David J. Hagan and Eric W. Van Stryland and Alexandra Boltasseva},
journal= {arXiv preprint arXiv:1507.06674},
year = {2015}
}