大规模金属薄膜生长前沿的原子级模拟
材料科学
2009-10-31 v1
摘要
我们展示了通过一种新的理论方法获得的电离溅射沉积条件下的金属化形貌模拟。通过使用精心设计的相互作用势进行分子动力学模拟，我们分析了Al物理气相沉积过程中发生的表面吸附、反射和蚀刻反应，并计算了它们的相对概率。然后，这些概率被用于特征尺度元胞自动机模拟器中，该模拟器产生的计算薄膜形貌与电离溅射沉积的扫描电子显微镜数据非常吻合。
引用
@article{arxiv.cond-mat/9809404,
title = {Atomistic modelling of large-scale metal film growth fronts},
author = {Uwe Hansen and Peter Vogl and Vincenzo Fiorentini},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/9809404},
year = {2009}
}
备注
RevTeX 4 pages, 2 figures