原子级厚度 MoS2 气泡中的粘附、刚度与失稳
介观与纳米尺度物理
2017-08-04 v1
摘要
我们使用机械鼓泡测试法测量了单层及少层 MoS2 薄膜从 SiOx 基底上分离的分离功，得到其值为 220 ± 35 mJ/m²。我们的测量结果还用于确定单层 MoS2 的二维杨氏模量为 160 ± 40 N/m。随后，我们研究了加压 MoS2 气泡的脱层力学，展示了气泡在膨胀过程中层合状态与脱层状态之间的稳定和非稳定转变。在气泡收缩时，我们观察到了边缘钉扎和突跳转变，这些现象无法用先前报道的模型解释。我们将此结果归因于粘附滞后，并利用我们的结果估算出薄膜的粘附功为 42 ± 20 mJ/m²。
引用
@article{arxiv.1708.01230,
title = {Adhesion, Stiffness and Instability in Atomically Thin MoS2 Bubbles},
author = {David Lloyd and Xinghui Liu and Narasimha Boddeti and Lauren Cantley and Rong Long and Martin L. Dunn and J. Scott Bunch},
journal= {arXiv preprint arXiv:1708.01230},
year = {2017}
}