含位错的应变外延弹性薄膜模型的标度律
偏微分方程分析
2024-03-21 v1
摘要
本文考虑了异质外延晶体生长中形状形成的一个静态变分模型。该能量泛函考虑了表面能、弹性失配能和位错的成核能。我们证明了极小能的标度律。这些结果量化了在特定参数区间内，岛屿形成或拓扑缺陷是有利的这一预期。这推广了 [Goldman and Zwicknagl (2014)] 中纯弹性设置下的结果。为了在下界估计中处理位错问题，本文提出了一种新的球构造变体，并结合了细致的局部估计。
引用
@article{arxiv.2403.13646,
title = {A scaling law for a model of epitaxially strained elastic films with dislocations},
author = {Lukas Abel and Janusz Ginster and Barbara Zwicknagl},
journal= {arXiv preprint arXiv:2403.13646},
year = {2024}
}
备注
22 pages, 7 figures