离子注入与剥离工艺制备超光滑单晶金刚石表面
材料科学
2016-08-26 v1
摘要
本文提出了一种获得光滑单晶金刚石表面的方法，即通过离子注入创建一个牺牲缺陷层，经退火使其石墨化，然后进行选择性刻蚀。我们使用了 240 keV 的 O+，主要工艺变量为离子注量（范围从 3x10^15 cm^-2 到 3x10^17 cm^-2）和最终的刻蚀工艺（湿法刻蚀、H2 等离子体及空气中退火）。通过原子力显微镜、光学轮廓仪和白光束 X 射线形貌术对衬底进行了表征。讨论了不同工艺参数对最终剥离效率和表面粗糙度的影响。研究发现，2x10^17 cm^-2 的 O+ 注量可在数十 μm² 范围内实现亚纳米级粗糙度。
引用
@article{arxiv.1608.07171,
title = {Ultra-smooth single crystal diamond surfaces resulting from implantation and lift-off processes},
author = {T. N. Tran Thi and B. Fernandez and D. Eon and E. Gheeraert and J. Hartwig and T. A. Lafford and A. Perrat-Mabilon and C. Peaucelle and P. Olivero and E. Bustarret},
journal= {arXiv preprint arXiv:1608.07171},
year = {2016}
}
备注
4 pages, 4 figures