离子注入金刚石表面肿胀的有限元分析
材料科学
2016-08-30 v1
摘要
我们给出实验结果和数值有限元分析，以描述金刚石衬底在经受MeV离子注入时因产生埋藏类石墨夹杂物而导致的表面肿胀。数值预测与采用扫描离子微束进行的MeV质子和氦注入的实验数据进行比较。两种情况下肿胀值均通过白光干涉轮廓术测量。模拟基于一个模型，该模型考虑了材料中机械参数随厚度方向的变化，作为离子类型、注量和能量的函数。分析了表面变形轮廓和内应力分布，数值结果可见与实验数据充分吻合。结果使我们能就不同MeV离子注入下金刚石中的结构损伤机制得出结论。
引用
@article{arxiv.1608.08111,
title = {Finite element analysis of ion-implanted diamond surface swelling},
author = {F. Bosia and P. Olivero and E. Vittone and F. Picollo and A. Lo Giudice and M. Jaksic and N. Skukan and L. Giuntini and M. Massi and S. Calusi and M. Vannoni and S. Lagomarsino and S. Sciortino},
journal= {arXiv preprint arXiv:1608.08111},
year = {2016}
}
备注
15 pages, 4 figures