扩散系数间隙导致的漂移诱导阶梯不稳定性
材料科学
2009-11-10 v1
摘要
在 Si(111)表面近结构转变温度处, 结构与 结构在坡度上共存: 结构位于阶梯边缘的下侧,而 结构位于上侧。两种结构中吸附原子的扩散系数不同。考虑到阶梯处扩散系数的间隙,我们研究了由漂移引起的阶梯游走的可能性。线性稳定性分析表明,若扩散系数在阶梯处存在间隙,阶梯游走总是以阶梯下漂移方式发生。非线性分析预期阶梯游走会形成直线沟槽。稳定性分析还表明,若阶梯下方的扩散更快,无论漂移方向如何,都会发生阶梯簇集,这会扰乱沟槽的形成。若阶梯间排斥较强,阶梯簇集被抑制,直线沟槽便会出现。蒙特卡罗模拟确认了这些预测。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0407541,
title = {Two-phonon infrared processes in semiconductors},
author = {Hadley M. Lawler and Eric L. Shirley},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0407541},
year = {2009}
}
备注
Submitted to Proceedings, ICPS 2004