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应变下具有过渡金属吸附原子的单层蓝磷烯中的拓扑转变

材料科学 2020-10-28 v1

摘要

我们进行了第一性原理计算,研究由 IVB 族过渡金属吸附原子(Cr、Mo 和 W)修饰的单层蓝磷烯(BlueP)的电子性质,发现 Cr 修饰的 BlueP 是磁性半金属,而 Mo 和 W 修饰的 BlueP 是带隙小于 0.2 eV 的半导体。压缩应变使带隙闭合后再打开,且此过程中发生能带反转,从而在 Mo 修饰的 BlueP(应变 -5.75%)和 W 修饰的 BlueP(应变 -4.25%)中诱导了从普通绝缘体到拓扑绝缘体(TIs)的拓扑转变。Mo 修饰 BlueP 的 TI 带隙为 94 meV,W 修饰 BlueP 的 TI 带隙为 150~220 meV。我们的发现为在具有过渡金属吸附原子的单层 BlueP 中调控拓扑相铺平了道路。

关键词

引用

@article{arxiv.2001.09826,
  title  = {Topological transition in monolayer blue phosphorene with transiton-metal adatom under stain},
  author = {Ge Hu and Jun Hu},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2001.09826},
  year   = {2020}
}

备注

6 pages, 6 figures