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手征极限之外的拓扑荷屏蔽与“质子自旋”

高能物理 - 唯象学 2009-10-31 v1

摘要

我们早先论文中提出的“质子自旋”效应理论被扩展到包含手征 SU(3) 对称性破缺以及 QCD 中非零夸克质量引起的味混合。理论基础是推导出在手征极限之外也成立的精确、统一的 Goldberger-Treiman (GT) 关系。观测到的味单态轴荷 a0(Q2)a^0(Q^2) 的抑制,可由单态流关联函数 <0T \pl\mJ\m50 \pl\nJ\n500><0|T~\pl^\m J_{\m 5}^0 ~ \pl^\n J_{\n 5}^0 |0> 斜率的异常小值来解释,这是 QCD 真空中拓扑荷屏蔽的结果。通过使用 QCD 谱和规则计算流关联函数,我们得到了数值预言。结果 a0(Q2)=0.31±0.02a^0(Q^2) = 0.31 \pm 0.02dx g1p(x,Q2)=0.141±0.005\int dx ~g_1^p(x,Q^2) = 0.141 \pm 0.005(在 Q2=10 \GV2Q^2=10 ~\GV^2 处)与当前极化质子结构函数 g1pg_1^p 的实验数据吻合良好。

关键词

引用

@article{arxiv.hep-ph/9812333,
  title  = {Topological Charge Screening and the `Proton Spin' Beyond the Chiral Limit},
  author = {S. Narison and G. M. Shore and G. Veneziano},
  journal= {arXiv preprint arXiv:hep-ph/9812333},
  year   = {2009}
}

备注

44 pages, plain TeX, 2 ps figures