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电子掺杂铜氧化物低温霍尔效应理论

强关联电子 2009-11-11 v1

摘要

本文给出了电子掺杂铜氧化物(如Pr2xCexCuO4+δPr_{2-x}Ce_xCuO_{4+\delta})霍尔电导T0T\to 0极限的平均场计算。发现数据与密度波序所预期的费米面重构定性一致。发现密度波能隙的量级较大。霍尔电阻在密度波序的量子临界点表现出非解析性,但发现该反常幅度小至不可观测。确定了RH(B)R_H(B)的量子临界贡献。计算与数据之间仍存在定量差异,表明实验掺杂量与CeCe浓度xx并不相同。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/0507310,
  title  = {Theory of Low-Temperature Hall Effect in Electron-Doped Cuprates},
  author = {Jie Lin and A. J. Millis},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0507310},
  year   = {2009}
}

备注

9 pages, 10 figures