基于赛德尔像差理论的极紫外光刻物镜初始结构求解方法
光学
2022-03-07 v1
摘要
本文提出了一种利用基于赛德尔像差理论的近轴光线追迹算法求解应用于极紫外（EUV）光刻的离轴多镜系统初始结构的方法。通过追迹反射系统中的特征光线，可获得各面上的高度和近轴角度，进而通过赛德尔像差系数与这些参数的关系，求解出像差性能良好的初始结构。通过添加不同的初始条件约束，我们可以得到不同的初始结构。本文中，我们通过分配不同的光焦度作为不同的初始结构，求解了两种不同的初始结构，并在此基础上优化了两个数值孔径（NA）为0.25的离轴六镜系统。它们的波前像差RMS值约为0.04波长，绝对畸变小于1.2nm，具有良好成像质量。我们认为该方法可大幅提升复杂多镜系统的设计效率与优化效果。
引用
@article{arxiv.2203.02302,
title = {The method of solving initial structure by Seidel aberration theory for extreme ultraviolet lithography objective},
author = {Wei Tan and Donglin Ma},
journal= {arXiv preprint arXiv:2203.02302},
year = {2022}
}