通过倏逝波耦合至有效增益介质表面态实现超分辨成像
光学
2012-06-20 v1
摘要
更高的数值孔径 (NA) 系统可能满足半导体光刻对更高分辨率的需求。然而，超过光刻胶折射率 (~1.7) 的 NA 会导致图像的表面受限。在本文中，我们描述了成像层下方的有效增益介质表面态如何通过倏逝波耦合来抵消这一问题。在 {\lambda}=193 nm 波长下，SiO2 上的蓝宝石层通过有效增益介质共振现象抵消了图像衰减，使得倏逝波干涉光刻能够在 1.85 (26-nm) 及更高的 NA 下制造高深宽比结构。
引用
@article{arxiv.1206.4148,
title = {Super-resolution Imaging by Evanescent Wave Coupling to Surface States on Effective Gain Media},
author = {Prateek Mehrotra and Chris A. Mack and Richard J. Blaikie},
journal= {arXiv preprint arXiv:1206.4148},
year = {2012}
}