离子掺杂氧化铜化合物中相干序参量的磁性起源
超导电性
2007-05-23 v5 强关联电子
摘要
讨论了掺杂氧化铜化合物的相图。通过考察一些近期在掺杂氧化铜化合物上获得的无穀粒散射数据，我们得出结论，离子掺杂氧化铜化合物中的相干间隙最可能来源于磁性，平均上与Tc成比例关系为2Delta/kTc=5.4。
引用
@article{arxiv.cond-mat/9905308,
title = {The Magnetic Origin of the Coherent Order Parameter in Hole-Doped Cuprates},
author = {A. Mourachkine},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/9905308},
year = {2007}
}
备注
6 pages including 1 figure